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钼靶材及其薄膜制备技术
¥88.5(7.5折)定价:¥118.0针对大尺寸钼靶材制备难度大、致密度和晶粒尺寸的均匀性难以控制等技术难点，本书从钼粉的制备和靶材的热加工工艺入手，研究了原材料及还原工艺对粉性能的影响和烧结的热变形行为，分析了变形温度、应变速率、变形量等对其动态再结晶和静态再结晶的影响，确定了钼靶材的制备工艺，实现了钼靶材的微观组织调控。本书还研究了钼靶材的原始组织状态、单层钼薄膜的热处理、双层钼薄膜的结构调控和工艺优化，探究其对金属钳薄膜结构和光电性能的影响，从而制备出具有良好光电性
