4.23文创礼盒,买2个减5元 读书月福利
欢迎光临中图网 请 | 注册
> >>
变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究

变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究

作者:纪玉洁
出版社:湖南美术出版社出版时间:2020-07-01
开本: 16开 页数: 166
本类榜单:艺术销量榜
中 图 价:¥70.4(5.5折) 定价  ¥128.0 登录后可看到会员价
加入购物车 收藏
运费6元,满69元免运费
?快递不能达地区使用邮政小包,运费14元起
云南、广西、海南、新疆、青海、西藏六省,部分地区快递不可达
本类五星书更多>

变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究 版权信息

  • ISBN:9787535692658
  • 条形码:9787535692658 ; 978-7-5356-9265-8
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>>

变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究 内容简介

本书由中央美术学院美术馆设计部主任,总监纪玉洁博士专著,图书着眼于梳理当代设计展的历史发展脉络,以优选视野聚焦1970年代以来设计类展览的策展变革与趋向。 该书文字12万,以图文并茂的形式从社会语境、文化视角、主题阐释、理论来源、批评话语、视觉传播、空间叙事、设计系统建构等方面,将大量不同类型的设计策展实践案例以非线性的逻辑方式来阐释和梳理,形成了“思想实验”、“重构设计的智识系统”、“拓展边界”、“技术的话语维度”、“思于未然”五个具有设计视图感的策展研究。

变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究 目录

导论
思想实验
社会责任与道德意识
批判与思辨的锋芒
重构设计的智识系统
重建秩序
重塑概念
拓展边界
扩展的设计
感官维度的延展
设计收藏的拓展
技术的话语维度
技术升维
技术的再自然
超材料
思于未然
危机
预测未来
结语
参考文献
附录
致谢
展开全部

变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究 作者简介

纪玉洁,中央美术学院设计学博士、中央美术学院美术馆设计部主任,设计总监,长期从事展览设计实践与设计展策展研究。

商品评论(0条)
暂无评论……
书友推荐
本类畅销
编辑推荐
返回顶部
中图网
在线客服