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2014-专利法研究

2014-专利法研究

出版社:知识产权出版社出版时间:2017-03-01
开本: 32开 页数: 273
本类榜单:法律销量榜
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2014-专利法研究 版权信息

  • ISBN:9787513048323
  • 条形码:9787513048323 ; 978-7-5130-4832-3
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>>

2014-专利法研究 本书特色

《专利法研究2014》共分五个专题,即专利权的实施与保护、专利申请与审查、职务发明制度研究、专利与标准以及国际动态等方面的内容。与授权条件以及专利的运用与保护等。共收集二十余篇文章,其中既包括对专利实践热点问题的研究也包括专利基本制度的研究。

2014-专利法研究 内容简介

《专利法研究2014》共分五个专题,即专利权的实施与保护、专利申请与审查、职务发明制度研究、专利与标准以及国际动态等方面的内容。与授权条件以及专利的运用与保护等。共收集二十余篇文章,其中既包括对专利实践热点问题的研究也包括专利基本制度的研究。

2014-专利法研究 目录

专利权的保护 标准必要专利的FRAND许可辨析 侵犯专利权之非法获利赔偿责任再审视 涉及数值范围选择发明中的等同侵权原则——以“科力远公司与爱蓝天公司专利侵权纠纷案”为例 中国特色知识产权制度 中国专利制度的实践特征及面临的挑战 经济结构、专利制度与创新——论中国现阶段经济结构对专利制度运行的影响 中国知识产权保护强度类型比较实证研究 中国专利保护强度的国际比较实证研究 知识产权基本法框架体系研究 国际知识产权动态 以案观法——美国专利实用性审查标准研究初探 基因专利相关问题分析——从美国联邦*高法院“人类基因专利”案说起 澳大利亚《创新专利制度评价》述评——兼论对我国实用新型专利制度的评价研究 美国外观设计图片文字解释的释义、辨析与反思 海牙体系下美国外观设计专利程序的调整及其评议 TPP专利谈判中各缔约国的利益诉求和谈判策略研究——以“可获得专利的主题”条款为视角 集成电路布图设计 集成电路布图设计知识产权保护 集成电路布图设计保护制度热点问题研究 集成电路布图设计登记的条件、要求和效能
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2014-专利法研究 作者简介

作者:国家知识产权局条法司。出版《专利法研究2006》《专利法研究2007》《专利法研究2008》《专利法研究2009》《专利法研究2010》《专利法研究2011》《专利法研究2012》.《专利法研究2013》。

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