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基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究 版权信息
- ISBN：9787538180565
- 条形码：9787538180565 ; 978-7-5381-8056-5
- 装帧：平装
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>
基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究 本书特色
全书分为六章，**章介绍了本研究的背景与研究动机、目前的研究难点和挑战以及研究的宗旨和目标。第二章详细的论述了氧化亚铜纳米线的制备过程，以及如何评价其特性。第三章深入探讨了纳米线的生长机理。第四章实现了在指定位置特定形状的纳米线的生长，并逐步说明了制备过程。第五章详尽阐述了光电效应的应用，制备了有Cu2O/Cu结的试件，测量了其暗电流以及太阳能电池的伏安特性曲线。第六章总结了本专著的*重要的研究结论。
基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究 内容简介
全书分为六章，靠前章介绍了本研究的背景与研究动机、目前的研究难点和挑战以及研究的宗旨和目标。第二章详细的论述了氧化亚铜纳米线的制备过程，以及如何评价其特性。第三章深入探讨了纳米线的生长机理。第四章实现了在指定位置特定形状的纳米线的生长，并逐步说明了制备过程。第五章详尽阐述了光电效应的应用，制备了有Cu2O/Cu结的试件，测量了其暗电流以及太阳能电池的伏安特性曲线。第六章总结了本专著的很重要的研究结论。
基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究 目录
1 绪论
1.1 研究背景和动机
1.2 目前研究难点和挑战
1.3 研究宗旨和目标
1.4 研究的主要内容
2 纳米线制备与评估
2.1 实验步骤
2.2 直接降温过程和阶梯降温过程
2.3 纳米线*佳制备条件
2.4 纳米线直径的可控性
2.5 纳米线成分分析
3 纳米线生长机理分析
3.1 Cu薄膜内应力分析
3.2 加热过程
3.3 阶梯降温过程
4 指定位置纳米线的生长
4.1 实验过程
4.2 改善措施
5 光电效应的应用
5.1 简介
5.2 样品制备
5.3 暗电流曲线
5.4 伏安特性曲线
6 结论
参考文献
1.1 研究背景和动机
1.2 目前研究难点和挑战
1.3 研究宗旨和目标
1.4 研究的主要内容
2 纳米线制备与评估
2.1 实验步骤
2.2 直接降温过程和阶梯降温过程
2.3 纳米线*佳制备条件
2.4 纳米线直径的可控性
2.5 纳米线成分分析
3 纳米线生长机理分析
3.1 Cu薄膜内应力分析
3.2 加热过程
3.3 阶梯降温过程
4 指定位置纳米线的生长
4.1 实验过程
4.2 改善措施
5 光电效应的应用
5.1 简介
5.2 样品制备
5.3 暗电流曲线
5.4 伏安特性曲线
6 结论
参考文献
展开全部
基于应力诱导法的氧化亚铜纳米线制备及其应用的研究 作者简介
岳玉梅，沈阳航空航天大学副教授，2012年3月于日本名古屋大学获得工学博士学位，主要从事纳米科技的研究工作。承担或参与搅拌摩擦焊相关的省部级课题3项、企业合作课题2项，还参与发明了8项国家专利。
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